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真空涂层注意事项
编辑 :

佳达

时间 : 2020-03-08 12:59 浏览量 : 16

 基础材料

 PVD涂层是高真空下的过程。不可以大量气体逸出的材料无法镀膜,因为处理室已被污染。

 基材表面粗糙度

 表面粗糙度越小,划痕测试的临界载荷值越高,并且涂层损坏(碎屑等)的可能性越小。通常,建议将算术平均粗糙度Ra设为0.8μm以下。特别是为了防止粘附,镜面抛光是有效的。但是,对于塑料,橡胶和压铸模,磨粒和喷砂是改善脱模性的有效手段。

 注意,真空纳米涂层反映了涂层表面上的底层表面形态。没有像电镀那样的流平效果。通常,较大的切割痕迹不适合作为基材。

 基材硬度

 增加基材表面的硬度对于提高涂膜的耐久性(与氮化等的组合处理)有效。通常,建议基材硬度为50HRC或更高。

 对于轻载应用,例如导带器,铝合金基材和化学镀镍,也可以使用。

 基材表面的清洁度

 为了获得与高质量纳米涂层的牢固粘合,沉积前的表面必须镀件清洁。对于金属,有必要创建一个没有氧化物或污染物层的新表面。以下是每个过程中要注意的要点。

1)预洗——无灼伤(氧化物层),清洁残留物,干斑,异物附着,毛刺等。

2)预热,烘烤——不要超过热处理回火温度。考虑基材的热膨胀系数和热容量。

3)真空涂层——保持和旋转产品的方法很重要,并且在所需表面上形成具有适合特性的膜层。

4)冷却出炉——完成以上流程,待温度冷却达到常温出炉。

5)包装出货。


膜系分类主成分耐磨耗性润滑特性耐凝性能耐高温
CrCrxNy--
-
Zr---
Ti系
氮化钛---
钛铝--
氮化硼--
DLC系交流电
Me-C:H-

具体要求可根据客户产品要求定制真空涂层工艺。



真空电镀推荐:

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