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真空离子镀都可以做哪些颜色
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佳达

时间 : 2020-03-31 22:34 浏览量 : 4

 真空离子镀获得新色系的可能性

 物质的颜色是物质对可见光选择性吸收后反射到人眼的刺激。选择性吸收取决于物质的电子结构和相应的电子能级跃迁。复杂化合物的电子结构过于复杂﹐影响电子结构的因素又太多,对指定的颜色至今还不能做到计算或设计出相应电子结构的物质,自然也不能期望轻易找到相应的靶材和反应气体﹔同时,现在对离子镀工艺过程中等离子体的物理化学行为认识还不深入,对多元素物质在离子镀过程中的分解、电离,产生的多样中间产物形态、价态,各类粒子的数量、比例、能量及其在空间的分布如何,它们又如何与等离子体放电的电气参数、发射源(靶)和供入反应气体的状况相联系,都不甚了解﹐因此要把颜色色差进行高精度控制现在还有困难﹐只能将色差控制在一定范围内。

 经过二十多年的努力,离子镀装饰膜可以生产出仿金黄色、银白色、玫瑰红、枪黑色、深黑色、咖啡色、棕色、蓝色等系列颜色。当前用于批量生产的,主要以Ti、Zr、Cr、TiAl、石墨靶材和氮、乙炔(碳)、氧合成的产物﹐也有人用硅和硅烷。市场不断提出新的颜色要求,但用有限几种元素合成物要获得更多稳定的颜色镀层,总有局限性。有人在试验铌、铪、各种稀土元素,还未有重大突破。

 当然﹐对大部分目视外观的电子产品而言﹐目前的工艺技朮还是有相当市场接受度的。正因为影响因素太多又认识不深入,有些颜色的生产极不稳定,有待积累经验和认识深入后才能走出困境。有人走另一条路,借用光学干涉膜的方法,通过干涉膜系计算和设计,用折射率高、低两种材料交替镀多层膜系,从而获得所需要的干涉色。用镀光学膜的方法来做装饰膜,最后顶层镀耐磨的透明保护膜,使之不影响获得的干涉色﹐这样也许原来难以获得的红色、绿色问题就解决了。

 高离化率脉冲溅射技术开辟新天地

 要沉积更致密更高性能的装饰膜,单就现有技术调整工艺参数难有重大突破。既然离子镀在等离子体状态工作,就应当寻求更有效的等离子体放电方式,获得更适合等离子体状态的镀膜条件。近年來开发的高离化率脉冲溅射技术(HIPMS)是一种有希望的新技术。高离化率脉冲磁控溅射技术,具有等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电荷数高、离子能量高、成膜离子比例大等特点。HPPMS技术制备的涂层由于受到高能离子轰击,缺陷少、表面光滑、更加致密,进而表现出较高的硬度、结合力、耐磨性、耐腐蚀性,以及抗高温氧化性能。该技术开发完善后也许会让溅射镀膜有新的飞跃。


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