欢迎来到佳达纳米涂层科技有限公司官方网站!
打开客服菜单

新闻中心

contact us

联系我们

佳达纳米涂层 > 公司动态 > 真空镀膜是如何形成薄膜的?
真空镀膜是如何形成薄膜的?
编辑 :

佳达

时间 : 2020-05-01 13:30 浏览量 : 2

 如何形成薄膜?

 作为形成薄膜的方法,通常,真空成膜技术包括利用粒子的物理运动的物理气相沉积法(PVD)和利用化学反应的化学气相沉积法(CVD)。 有两种类型。在此,让我们简要解释一下以前的气相沉积法和溅射法。

 气相沉积法是最简单的成膜方法,如(a)所示,其中将膜材料在真空中加热,熔化和蒸发以粘附到目标物体上。可以将其与从浴缸中升起的蒸汽变成天花板上的水滴的现象进行比较。

 另一方面,如(b)所示,溅射法是在真空容器与由膜材料构成的电极(靶)之间施加数百伏的电压的方法。此时,如果引入少量的惰性气体(氩气等),则会发生放电,并且能量的能量使气体颗粒带正电。正极粒子非常强烈地吸引到负极并与其碰撞。在这种动量下,一部分薄膜材料变成颗粒并飞走,在目标物体上形成薄膜。

 例如,当旧的荧光灯中的气体由于放电而与灯丝(白炽灯泡的发热/发光部分)发生碰撞,并且一部分灯丝粘附在玻璃管内部时,荧光灯的末端会变黑。它将改变颜色。这也被认为是溅射成膜的一种。

 如何制作优质的薄膜?

 然而,仅凭这种方法不能生产出具有低杂质和高粘附性的高质量薄膜。关键是在成膜过程中在容器内部产生真空。

 例如,当在(a)大气和(b)低真空的条件下形成膜时,即使薄膜材料的颗粒试图朝着容器上部的物体移动,空气中的水蒸气,氧气,氮气,二氧化碳由于诸如粒子之类的粒子阻碍了该过程,因此其不容易到达目标物体并且不能形成膜。另外,即使薄膜材料的颗粒到达目标物体,它也只会是粘附力较弱的薄膜,并且该薄膜材料会与空气中的另一种物质结合而变质等。可能会发生。因此,如(c)所示,通过使容器内部成为高真空状态并尽可能减少空气中所含的多余成分,可以制造杂质少且品质优良的薄膜。


真空电镀推荐:

cache
Processed in 0.005185 Second.