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什么是真空沉积
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佳达

时间 : 2020-04-30 16:30 浏览量 : 2

 这是形成涂层的技术。

 在真空容器中加热汽相沉积材料以使其汽化或升华,并将其沉积在放置在远处的基板表面上以形成薄膜。

 根据气相沉积材料和基材的类型,可以通过电阻加热,电子束,高频感应,激光等方式对其进行加热。

 作为气相沉积材料,诸如SiO 2,TiO 2,ZrO 2和MgF 2的氧化物和氟化物主要用于与铝,铬,锌,金,银,铂和镍等金属具有光学特性的薄膜(光学薄膜)。要做。汽相沉积除用于金属外,还用于树脂,玻璃等,也可以用于纸张等。

 取决于用于成膜的基材和气相沉积材料,可以通过使用RF等离子或离子枪辐照的预沉积处理来提高附着力。

 气相沉积期间的膜厚度可以通过光谱法通过测量反射率或折射率或通过测量由于气相沉积材料在晶体单元上的沉积引起的频率变化来测量。

 真空沉积的应用

 光学薄膜(用于眼镜和镜片的减反射膜,特殊镜等),电极,半导体膜,用于显示组件(等离子显示器,有机EL,液晶显示器)的绝缘膜,磁带(录音带,录像带等),手机电子元件(电阻,电容器,半导体集成电路等),电话和PDA的显示表面和主体装饰涂层,食品包装材料(用于小吃袋的铝蒸镀膜),时尚材料和建筑材料等。是的,它广泛用于各个领域。为了防止在扫描电子显微镜或EPMA观察过程中充电,可以沉积C或Au。(参考维基百科)

 什么是溅射?

 在溅射中,在真空中引入惰性气体(主要是Ar),将负电压施加到靶材(板状膜形成材料)以产生辉光放电,并使惰性气体原子电离,气体离子高速碰撞目标表面并猛烈撞击,以猛烈喷射出组成目标的成膜材料的颗粒(原子/分子),并强烈粘附并沉积在基板/基板表面上以形成薄膜。技术。

 通过溅射法,即使是难于利用真空蒸镀法实现的材料,例如难熔金属和合金,也可以形成为膜,并且可以支持多种成膜材料。


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