什么是离子镀

　离子镀是1950年代在美国国家航空航天局开发的一项技术，是空间开发技术的一部分，并已作为一种提高切削工具和模具耐用性的技术而在全球范围内应用。

　在这项技术中，金属在真空中利用热能或等离子体的能量蒸发，与反应气体结合形成陶瓷，然后照射到工件上。与传统的湿式电镀相比，具有出色的附着力和耐磨性。

　这是一种PVD（物理气相沉积），我们使用电弧离子镀和磁控溅射技术。

　离子镀的特点

　1.优异的耐久性

　通过与反应性气体结合，可以形成硬质陶瓷涂层，因此耐磨性比湿式电镀高得多，具有延长产品寿命的作用。

　2.高附着力

　沉积的金属原子通过放电被电离，在等离子体中以高动能加速，并与工件碰撞，从而形成具有高附着力的薄膜。

　3.人类友好的金属

　我们的离子镀膜主要由钛制成，没有金属过敏。钛具有出色的生物相容性，并且没有金属过敏，因此可用于眼镜架，人体各个部位的骨骼修复，人造牙（植入物）的螺钉以及外科手术工具。

　电弧离子镀原理

　通过在真空中蒸发待涂覆的成膜金属并将通过电弧放电离子化（电离）的正电荷成膜金属吸引到施加有负电荷的工件上，可以获得具有良好粘附性的硬质陶瓷。这是制造薄膜的技术。沉积金属主要是钛，并且还有其他金属，例如铬，铜和铝。当沉积的金属是钛时，通过注入作为反应性气体的N 2（氮）或C 2 H 2（乙炔）与钛离子结合，形成TiN（氮化钛）和TiCN（碳氮化钛）。形成陶瓷涂层，并制成诸如金色，棕色，灰色和黑色的颜色。

　溅射原理

　注入惰性气体（例如氩气），该惰性气体在真空中不与沉积的金属发生反应，并在工件和靶材（板状沉积的金属）之间施加高压，以产生等离子体（辉光放电）。 。通过辉光放电离子化的带正电的氩离子与高速碰撞有负电荷的靶碰撞。这是一种通过吸引（溅射）因碰撞而被击中的沉积金属到施加了负电荷的工件上，从而形成具有良好附着力的硬质陶瓷薄膜的技术。沉积金属主要是钛，并且还有其他金属，例如铬，铜和铝。当沉积的金属是钛时，通过注入作为反应性气体的N 2（氮）或C 2 H 2（乙炔）与钛离子结合，形成TiN（氮化钛）和TiCN（碳氮化钛）。形成陶瓷涂层，并制成诸如金色，棕色，灰色和黑色的颜色。

　磁控溅射技术

　我们使用不平衡磁控溅射。在普通的磁控溅射中，将磁铁安装在靶材的后面，磁场在靶材的前面生成密集的等离子体区域，从而增加了与工件碰撞的速度。在磁控溅射中，使外磁体强于内磁体，并且靶上的磁场强度朝向工件扩展。可以增加附着力。