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离子镀方法
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佳达

时间 : 2020-04-30 08:30 浏览量 : 2

 我们可以帮助真空表面改性。

 EB方法(电子束)的高频(RF)离子电镀,

 通过ARE方法进行离子镀(激活反应性蒸发)。

 另外,HCD法(全阴极放电),AIP法(电弧离子镀,离子辅助法(通过离子枪进行等离子体照射)),溅射法包括UBM不平衡磁控管,DC法,高频溅射法(氧化物等)。我们接受所有干式涂层,例如成膜),CVD方法(在900至1100 °C时用于成膜的化学气相沉积),PCVD方法(使用等离子体的低温CVD方法)和电阻加热方法。

 上述真空过程可用于形成许多金属间化合物,包括:

 TiN膜(氮化钛,呈黄色)已被应用于许多领域,金属钻。

 可以将其涂在木工钻头上,以提高清晰度并延长钻头本身的寿命。由于其颜色,它也可用于金属眼镜架,表壳,金属表带等进行装饰,并且很难刮擦,弄脏并且易于维护。

 这些表面修饰方法称为离子镀方法,而NASA的DM Matox 则将其设计用于空间开发(最初,离子镀方法是空间开发的一部分而开发)。为了确保滑动性(不能使用油等),在其上镀了金(Au),但是由于密合性差,因此由于镀金的剥离而无法确保滑动性。

 在那里发明了ARE方法(主动反应蒸发),大约在1970年左右。


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