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各种真空沉积工艺特点的对比
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佳达

时间 : 2020-05-09 13:30 浏览量 : 2

 蒸发法(VD)的特点

 更高的膜纯度,减少基材损坏,可以使用比较弱的附着力,视情况而定,膜趋于推注,没有胶片粘在阴影区域,附着力取决于锚固效应和扩散。

 离子镀法(IP)的特点

 附着力强于真空沉积,即使在低温下(某些类型的薄膜除外)也可以获得附着力。可以获得成膜条件的多样性,反应膜可能,在阴影上的覆盖率比真空沉积更好。可能的合金膜。

 溅射法的特征

 重现性,容易形成合金膜,高能量使反应膜容易,可以获得具有强粘附力和高结晶度的膜。难以提高成膜速度,强直度使阴影难以追踪。

 等离子CVD(P-CVD)的特征

 阴影上影片的覆盖率好,高度灵活和通用的方法,除无机物质外,还可形成有机物质,可以形成反应膜。难以进行流程优化,根据副产品类型需要处理。


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