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高精度控制磁控溅射和平膜形成的发展
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佳达

时间 : 2020-04-04 19:27 浏览量 : 6

 透明导电膜用作平板显示器和触摸屏的透明电极膜,而氧化铟锡(ITO)等氧化物材料用作其材料。作为透明导电膜的要求,要求减小电阻率和不均匀性以增加显示器的尺寸和清晰度并防止多层膜的电极之间的短路故障。

ITO涂层工艺

 磁控溅射被用作这种涂层制造方法的主体,但是,当使用氧化物进行溅射时,由于高能氧负离子而导致膜质量下降是一个问题。通过溅射在靶表面上产生的氧负离子被靶前表面上的高压所加速,并被认为会与沉积在基板上的膜表面碰撞并对其造成损害。因此,重要的是通过低压放电减少负离子能量以进行高质量的膜形成。在最近的磁控溅射中,脉冲放电主要用于抑制由于靶附近积累的正离子引起的电弧放电。但是,施加到脉冲的高负偏压会释放出高能氧负离子,这可能会影响涂层质量。

 目的和概述在本研究中,我们旨在制造高度平坦的ITO涂层,并使用叠加VHF的方法来降低脉冲电压。通过施加高频功率,由于与直流放电的放电机理不同,可以抑制负偏压。据报道,可以通过在直流放电上叠加RF高频功率来抑制负偏压,但是通过叠加比RF频段更高的VHF频段可以实现更低的自偏压和更高的密度。可以产生简单的等离子体。可以预期达到什至更低的损伤溅射。


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