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PVD物理气相沉积的原理,类型和特征
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佳达

时间 : 2020-04-05 08:30 浏览量 : 8

 物理气相沉积的原理,类型和特征

 1)真空蒸着

 真空蒸发是使塑料具有金属光泽的方法之一。由于可以在真空中降低金属等的汽化温度,因此金属在真空中被加热和蒸发以在塑料表面上沉淀。

 真空沉积的过程是在塑料上涂覆底涂层(底涂层),干燥,附着沉积的金属膜,然后涂覆面漆以保护沉积的膜。

 铝,金,银,锌等用作要蒸发的金属,但铝蒸发主要用于装饰。除装饰目的外,它还用于具有阻气性和杀菌食品包装的功能性薄膜。

 2)溅射

 通过在真空装置中将物体(塑料)放在阳极侧并将靶材(涂层材料)进行溅射。该方法将装在设备中的Ar(氩)气体电离,使其与目标碰撞,然后将飞出目标的目标分子转变为薄膜。

 通过溅射法可以进行大多数的金属镀敷,其特征在于,可以通过真空蒸镀难以进行的Cr(铬)镀敷,ABS树脂以外的各种树脂进行金属镀敷。结果,使用领域广泛,并且溅射产品广泛用于装饰目的,例如汽车,照明电器,光学器件和各种工业设备。另一方面,膜沉积速率比其他装饰方法慢,并且每单位面积的高成本是个问题。

 3)离子镀

 其原理与真空沉积法的原理相同,不同之处在于在真空装置中产生放电以产生等离子体,并且蒸发的金属颗粒经过电离并电吸附到物体(塑料)上。是要拍电影。这使得可以产生比气相沉积方法具有更强粘附力的膜.市场上流行的薄膜是金色的氮化钛薄膜,但根据加工条件的不同,其颜色可以从银到棕色。另外,使用钛以外的金属和氮气以外的气体的彩色涂料已经投入实际使用。


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