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PVD涂层技术
编辑 :

佳达

时间 : 2020-03-25 16:30 浏览量 : 8

 PVD涂层

 PVD涂层是一种通过离子镀物理气相沉积)形成各种陶瓷涂层的技术。PVD涂层的加工温度低至约500℃,氮化物如TiN涂层(氮化钛),CrN涂层(氮化铬),TiCN(涂层碳氮化钛),TiC涂层(碳化钛)和VC涂层(碳化钒)等涂层可为模具和工具提供耐磨性和耐腐蚀性。

工模具涂层加工

涂层生产原理

 PVD涂层原理

 1)通过电弧放电,空心阴极放电,EB等将涂料溶解在气体中

 2)涂层材料的气体和反应性气体在等离子体中被电离。

 3)通过施加到产品上的偏置电压(负电压)来诱导离子。

 4)在产品上感应的离子形成具有投射力和附着力的涂层。

 PVD涂层的特点

 PVD涂层的特征在于其涂层方法取决于加工方法和真空钛金炉。

 这是一些典型的真空涂层方法。

真空涂层膜系

 电弧法

 1)加工温度可以在200-500℃的宽范围内。PVD涂层生产

 2)施加的电压大并且可以获得具有优异粘附性的PVD涂膜。

 3)由于可以设置多个电弧蒸发源,因此可以涂覆复合膜和多层膜。

 4)可兼容较大的工件。

 5)大型炉可用于批量生产。

 溶解式

 1)处理温度为400-500℃,可以获得高粘合力的PVD膜层。

 2)获得的涂膜非常致密,并且可以获得具有高耐腐蚀性的PVD膜层。

 3)涂膜具有优异的光滑度。其特征在于在涂层处理之前和之后表面粗糙度几乎没有变化。

 4)可以在相对较短的时间内进行处理,并可用于批量生产。

PVD涂层工艺


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