欢迎来到佳达纳米涂层科技有限公司官方网站!
打开客服菜单

新闻中心

contact us

联系我们

佳达纳米涂层 > 镀膜案例 > DLC膜的形成方法和结构
DLC膜的形成方法和结构
编辑 :

佳达

时间 : 2020-03-09 22:16 浏览量 : 11

 DLC膜的形成方法和结构

 DLC成膜方法根据碳源大致分类,有两种方法:固体石墨(石墨)和烃气。前者包括溅射法和离子镀法,后者的代表包括等离子体CVD和使用热电子的电离沉积。

 在使用石墨作为原料的成膜方法中,磁控溅射是最实用的,特别是在合同加工行业中,不平衡磁控溅射(UBMS)的使用正在增加。在UBMS中,等离子体区域到达处理对象,因此对处理对象的离子照射效果大于普通磁控溅射的效果,这被认为有利于膜的粘附。

 在使用碳氢化合物气体作为原料的成膜方法中,将基于碳氢化合物的气体引入已减压的真空室中,通过热离子撞击,RF等离子体或DC等离子体的作用将其离子化,然后撞击基板以沉积膜。是什么让你。由于在第5章介绍了RF等离子体CVD和DC等离子体CVD的概述,因此,通过热电子轰击进行电离沉积方法的概述以及成膜条件。这种方法是在前东德开发的,并于1980年代引入日本,并已被用作碳膜生产系统。

 使用该方法的成膜机理利用了以下事实:由于热电子轰击,气体分子和原子成为阳离子,并且通常使用苯(C 6 H 6)作为碳源。即使使用诸如甲烷(CH 4)和乙炔(C 2 H 2)之类的其他基于烃的气体,尽管合适的成膜条件和成膜速度不同,也可以获得几乎相同的膜。

 C作为反应气体使用是DLC膜的概念产生的。3,C 6 H ^ 6电离或通过热电子冲击的基团(可以设想不同的C和H的组合)和它们与施加负电压的基板碰撞,并沉积碳膜。换句话说,与基材的碰撞的冲击切断具有最小结合能的CH,溅射H,并且在工件的表面上沉积包含H的碳膜(DLC)以形成膜。

 DLC膜通过XRD观察不到任何尖锐的峰,表明它是微晶或无定形的。当通过TEM观察电子透射图像时,如图4所示,在整个区域未观察到被认为是结晶的结构,并且示出了由于在非晶相中观察到的由于相衬而导致的精细图案。你呢 此外,在该图所示的电子衍射图案中,未观察到尖锐的衍射线和晶体特有的斑点,而仅观察到了非晶态特有的卤环。由上可知,DLC膜是非晶质的。

 拉曼光谱通常用于评估非晶DLC膜的结构,在较低波数侧存在以1520cm -1为中心的宽峰(sp2)和散射强度较高的区域(sp3),该区域是与金刚石和石墨不同的碳膜。


真空电镀推荐:

cache
Processed in 0.003549 Second.